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        “极端紫外光刻技术所使用的光刻机的对准套刻精度要达到10n，其研发和制造原理实际上和传统的光学光刻在原理上十分相似。”

        “对光刻机的研究重点，是要求定位要极其快速精密，以及逐场调平调焦技术。因为光刻机在工作时拼接图形，和步进式扫描曝光的次数很多。不仅如此，入射对准光波信号的采集，以及处理问题还需要解决。”

        “euv技术的进展还是比较缓慢的，投资巨大。当前，其实没有几家厂商，能够将这项技术应用于生产中。唯一的al公司，做出来的东西，也仅仅算是勉强能用。”

        “各家厂商都清楚，半导体工艺向往下刻，使用euv技术是必须的。波长越短，频率越高，光的能量正比于频率，反比于波长。”

        “但是因为频率过高，传统的光溶胶直接就被打穿了。现在，半导体工艺的发展已经被许多物理学科从各个方面制约了。”

        “现在的问题的是，第一，euv光刻机造价太高，好几千万优元。”

        “第二，没有真正合适的光源。”

        “第三，没有合适的掩模。第四，未研发出合适的光刻胶！”

        “所以，我是打算，咱们可以在光源上，琢磨琢磨。”

        说道这里，辛启天颇有些意犹未尽舔了下嘴角，眼神放光的说道：“其实如果不考虑整体行业发展，我个人，更想去研究电子束光刻。”

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