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        “70年代，gca开发出第一台分布重复投影曝光机，集成电路图形线宽从15μ缩小到05μ节点。”

        “80年代，svgl公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形线宽从05μ缩小到035μ节点。”

        “90年代中后期，光学光刻分辨率到达70n的极限。”

        “新世纪以来，业内在已经不得不动手研究，包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，x射线光刻技术，纳米压印技术等。”

        “现有的光刻机构造，一般分为，照明系统、sta系统、镜头组、搬送系统、系统。”

        “新的各种光刻技术研究中。普遍的把软x射线投影光刻称作极紫外投影光刻。”

        “当前，对极紫外投影光刻euv技术的研究最为深入，也取得了突破性的进展，使极紫外投影光刻技术最有希望被普遍使用到以后的集成电路生产当中。”

        “是距实用化最近的一种深亚微米的光刻技术。”

        “业内，普遍有一种认知，如果不早点推出极紫外光刻技术，来对当前的芯片制造方法做出全面的改进，将使整个芯片工业处在岌岌可危的地步。”

        “所以，其实新时代的节点，变革点，已经能够清晰的预见。”

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