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        当然，从另一个方面来说，他们中间。充斥的是空气。

        浸入式的思路，就是用液体。来替换中间的空气。由于液体具有折光率，所以当紫外线光通过液体介质后，其光源波长会缩短。从而起到精微刻制的作用。

        用主流的三百六十纳米技术来说，采用折射率为一点五的液体，其光波就能变成二百四十纳米！

        而寰宇公司费尽心机弄回来的二百四十八纳米地光刻机，采用了一点五地浸入式技术，立即就摇身一变，成为一百六十五纳米光刻机，远远超过现有的光刻技术！

        其实浸入式光刻，并非寰宇公司首创。但真正长期将其作为一个研究项目的研究单位，全世界也只有寰宇公司。

        光刻技术的发展，从一代技术向下一代技术发展地时候。总会出现瓶颈。

        因此，早在八零年。就有科学家采用浸入技术，成功地提高了光刻效果。然而，由于浸入式光刻技术，它的液体很容易污染光学镜片，所以主流光刻技术研究，只是将其作为一个过渡手段，没有重视。一旦下一代光刻技术成熟，便毫不犹豫地抛弃浸入式光刻。

        但寰宇公司不同。

        汪工等精密仪器公司的研究人员。虽然使出浑身解数。但限于光学技术的制约。在光刻机上，总是落后于西方。

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