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“可不是么,要不一开始我劝你别投资,真要想投资也要等到公司的浸入式DUV样机能够研发出来不迟。”
萧扬明这句话就证明了他在商业领域的迟钝,要知道到了那时候,一纳米作为一个外人,无论ASML还是英特尔摩托罗拉这些企业,怎么可能让他过来摘桃子。
在赵长安的前一世,ASML研发出来:1150i以后,英特尔,高通,摩托罗拉,台积电等公司总共凑集了50亿美元,用于浸入式EUV光刻机的研发,台积电之所以能够参与进去,是因为它和飞利浦之间的持股关系,以及一直以来都是作为ASML的续命稻草,不然根本就没有进场的资格。
可以说现在是一纳米北美进场的最佳时机,也是最后的机会。
赵长安要是不设法抓住,能让他后悔一辈子。
&光刻机使用的光源是13.5nm的极紫外光,是利用高功率激光去轰击金属靶材,让金属靶材瞬间蒸发形成等离子体辐射出来EUV光,然后再对这种光源进行控制雕刻。
老西盟和德国创浦用了将近十年的时间,才把这个难题解决。
只是这个技术,就是一道天堑。
而且整个EUV光刻机里面,有着很多这种极致的技术要求,需要全世界最顶尖的专业领域的企业进行数年的研发,对于任何一个国家来说想要独立完成,都是一个几乎不可能的事情。
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