还不赶快来体验！！！

        比丽棒、以及两制的太直岛早10年！

        到70年代，华国电子元件的规模制造已在好些个城市开展。

        72年，江城无线电元件三厂编写出版了《光刻掩模版的制造》。

        65年，科学院研制出65型接触式光刻机。

        随后，申河光学机械厂也试制成功了半自动接触式光刻机。

        70年代，科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。

        70年代末，科学院半导体所，开始研制jk-1型半自动接近式光刻机。并在81年研制成功两台样机，而且还在生产线中投入使用！

        水木大学研制第四代分步式投影光刻机，且80年获得成功！

        光刻精度达到3微米，接近当时得国际主流水平！

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