还不赶快来体验！！！

        给自己打了个气，沈靖便开始继续了。

        陈舟这边，等沈靖离开后，便坐回桌子前，继续看文献。

        还剩两个，直流电弧等离子喷射cvd法和微波等离子体cvd法。

        直流电弧等离子喷射cvd法，也叫法。

        这是一种放电区内隐的直流电弧等离子体沉积法。

        这种方法的优点就是，有极快的沉积速度。

        是极快，不是一般的快！

        在上世纪90年代的时候，就有实验室利用阴阳极呈直角的反应器实现了930m/h的高速生长。

        这可是930m/h，不是930μm/h！

        而且，就算是930μm/h，那也是远高于现在四十三所制备金刚石薄膜的40μm/h的。

        内容未完，下一页继续阅读